研究・制作業績システム
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コバヤシ シンイチ
KOBAYASHI Shin-ichi
小林 信一
所属
東京工芸大学 工学部 工学科 電気電子コース
職名
教授
研究課題・受託研究・科研費
Deposition and Characterization of High-quality Amorphous and microcrystalline Ge Films 個人研究 個人研究
VHFプラズマCVDによるシリコン窒化膜(a-SiNx:H)の形成と保護膜への適用 個人研究 個人研究
VHF帯励起プラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立 科学研究費補助金申請
【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般) VHF帯励起プラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立 科学研究費補助金申請
【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般)VHFプラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立 科学研究費補助金申請
【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般)VHF帯励起プラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立 科学研究費補助金申請
【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般)VHF帯励起プラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立 科学研究費補助金申請
【大学記入分】科研費:挑戦的研究(萌芽) 絶縁基板上の高配向ゲルマニウム・ナノワイヤ形成 科学研究費補助金申請
シリコン上のエピタキシャルゲルマニウム膜の貫通転位密度低減 個人研究 個人研究
化学的気相成長法(CVD法)によるGeナノワイヤの成長と膜質評価 個人研究 個人研究
高品質アモルファス及び微結晶Ge膜の成膜と膜質評価 個人研究 個人研究
絶縁基板上の高配向ゲルマニウム・ナノワイヤ成長メカニズム解明と太陽電池応用 挑戦的研究(萌芽)
2023/04/01 ~ 2026/03/31
絶縁基板上の高配向ゲルマニウム・ナノワイヤ結晶成長とその応用 その他の補助金・助成金
2023/04/01
絶縁基板上の高配向ゲルマニウム・ナノワイヤ結晶成長メカニズム解明と太陽電池応用 挑戦的研究(萌芽)