研究・制作業績システム - 安田　洋司

ヤスダ　ヨウジ YASUDA Yoji
安田　洋司

所属東京工芸大学工学部工学科　電気電子コース

職名准教授

研究課題・受託研究・科研費
	ITO代替透明導電膜の成膜プロセスの開発と応用個人研究
	【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般) 酸化物薄膜の低ダメージ高速堆積技術の開発とメカニズムの解明科学研究費補助金採択
	【大学記入分】科研費:若手研究酸化物薄膜の高速･低ダメージ堆積技術の開発とメカニズムの解明科学研究費補助金申請
	【大学記入分】科研費:若手研究ガスクロミック特性を有するWO3膜の高速成膜法の開発科学研究費補助金申請
	【大学記入分】科研費:若手研究ガスクロミック特性を有するWO3膜の高速成膜法の開発科学研究費補助金申請
	【大学記入分】研究寄付金:住友化学その他の補助金・助成金研究寄付金
	【大学記入分】研究寄付金:住友化学株式会社その他の補助金・助成金研究寄付金
	ガスクロミック特性を有する機能性薄膜の微細構造制御に関する研究個人研究
	酸化物薄膜の太陽電池用電極膜への応用に関する研究個人研究
	酸化物薄膜の低ダメージ高速堆積技術の開発とメカニズムの解明科学研究費補助金採択
	斜め入射堆積法を利用した高性能光触媒薄膜製作技術の開発個人研究
	有機ELデバイス作成用低ダメージスパッタ成膜技術の開発個人研究
2021/04/01 ～ 2024/03/31	酸化物薄膜の低ダメージ高速堆積技術の開発とメカニズムの解明科学研究費助成事業基盤研究(C)
2015/04/01 ～ 2019/03/31	高性能光触媒酸化チタン薄膜作製のための酸素ラジカル源利用斜め入射高速堆積法の開発科学研究費助成事業基盤研究(C)