研究・制作業績システム - 小林　信一 | 東京工芸大学

（最終更新日 : 2025-07-07 16:15:52）

コバヤシ　シンイチ KOBAYASHI Shin-ichi
小林　信一

所属東京工芸大学工学部工学科　電気電子コース

職名教授

学歴
～2003/09/01	東北大学大学院工学研究科電子工学専攻博士修了博士（工学）
～1990/03/31	東北大学大学院工学研究科電子工学専攻博士前期課程修了工学修士
～1988/03/31	東北大学工学部電気工学科工学部電気系卒業工学士

職歴
2018/04/01 ～	東京工芸大学工学部工学科　電気電子コース教授

所属学会
	Materials Research Society
	応用物理学会

現在の専門分野
電気電子工学, 薄膜表面界面物性

著書・論文歴
論文	マルチスペクトルカメラを搭載したドローンによるインデックスマッピングとフルカラー３D造形日本写真学会誌 86 (1),50-55頁 (共著) 2023/01/18
論文	Photocatalytic properties of annealed TiO2 films with controlled structure fabricated using oxygen-ion-assisted reactive evaporation with glancing angle deposition technique 12 (1) (共著) 2022/01/12
論文	Top-emission organic light emitting diode with indium tin oxide topelectrode films deposited by a low-damage facing-target type sputtering method Thin Solid Films Vol.698,137868-137868頁 (共著) 2020/02/01
論文	Reactive sputter deposition of WO3 films by using two deposition methods J. Vacuum Science & Technology A Vol. 37,31514-31514頁 (共著) 2019/05/01
論文	Crystal Orientation and Electrical Properties of Tin Oxide Transparent Conducting Films Deposited on Rutile Surface 250,12021-12021頁 (共著) 2017/10/01
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学会発表
2025/03/16	プラズマCVDを用いた絶縁基板上の高配向Geワイヤ成長への基板温度の影響 (第72回応用物理学会春季学術講演会、16p-P07-3, 東京理科大学)
2024/09/18	プラズマCVDによる絶縁基板上の高配向 Geワイヤ成長 (第85回応用物理学会秋季学術講演会、18p-P10-1, 朱鷺メッセ)
2017/10/17	Initial oxidation characteristics of air-exposed silicon nitride films grown at low substrate temperature using very-high-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition (TACT2017, The 5th International Thin Films Conference, 東華大学)
2017/03/01	有機EL素子の上部Al電極膜作製における低ダメージスパッタ法と蒸着法の比較検討 (パシフィコ横浜)
2017/02/01	IR spectroscopic study during air-exposure of silicon nitride films grown at a low substrate temperature using VHF-PECVD (10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics)
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講師・講演
2019/12/17	厚木市 (荻野小学校)
2019/12/13	厚木市 (毛利台小学校)
2019/07/13	神奈川県政策局・神奈川県教育委員会 (新都市ホール)
2019/03/22	藤沢西高等学校 (藤沢西高等学校)
2018/11/06	厚木第2小学校 (厚木第2小学校)
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研究課題・受託研究・科研費
	Deposition and Characterization of High-quality Amorphous and microcrystalline Ge Films 個人研究個人研究
	VHFプラズマCVDによるシリコン窒化膜(a-SiNx:H)の形成と保護膜への適用個人研究個人研究
	VHF帯励起プラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立科学研究費補助金申請
	【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般) VHF帯励起プラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立科学研究費補助金申請
	【大学記入分】科研費:基盤研究(C)(一般)VHFプラズマCVDによる高ガスバリア性SiN膜の低温形成法の確立科学研究費補助金申請
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社会における活動
2022/12/15	おもしろ理科教室
2019/12/17	おもしろ理科教室
2019/12/13	おもしろ理科教室
2018/11/06	おもしろ理科教室
2018/01/16	おもしろ理科教室
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ホームページ
https://www.t-kougei.ac.jp/gakubu/engineering/staff/#kobayasi

科研費研究者番号
60277944